核徑跡防偽技術(shù)介紹 根據(jù)用戶要求的圖案通過成像技術(shù)采用原子能核反應(yīng)堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬個，微孔在平面上按統(tǒng)計規(guī)律分布，微孔斜度30-50度，孔道具有良好的透氣、透水性能。通過特殊工藝將薄膜與基材復合，再經(jīng)過印刷而制成客戶要求的防偽標識。 核徑跡防偽技術(shù)，清華大學核能技術(shù)設(shè)計研究院與廣州傾松數(shù)碼科技有限公司合作生產(chǎn)的核徑跡防偽標識。 是根據(jù)用戶要求的圖案通過成像技術(shù)采用原子能核反應(yīng)堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬個。 核徑跡的特點 1、核徑跡膜的生產(chǎn)必須使用原子核反應(yīng)堆等國家專控大型核設(shè)施，國內(nèi)只有極少數(shù)幾個在國家控制下的核研究單位擁有這樣的設(shè)備，是任何個人和團體不可能擁有的。目前國內(nèi)唯有清華大學核能技術(shù)設(shè)計研究院的核反應(yīng)堆具有生產(chǎn)核徑跡膜的能力。高度壟斷決定一般企業(yè)不可生產(chǎn)性。核徑跡防偽生產(chǎn)是占有獨性的 。核徑跡防偽標識的生產(chǎn)，還需要核物理、化學、電子、機械、光學等多學科的共同參與才能完成。 ...
發(fā)布時間:
2017
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